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| 삼성
반도체 사업부 사례 분석
반도체의 개념및 사례요약
반도체
정보의 저장 or 논리적인 계산 및 처리능력을 갖는 부품을 생산하는 산업
비메모리반도체 산업 : 연산 or 제어기능(시스템반도체)
메모리반도체 산업 : 정보 저장
메모리반도체 산업
메모리반도체는 정보를 저장하는 용도로 사용되는 반도체를 말함.
인간의 기억·기록 능력을 전자적 수단에 의해 실현하는 장치.
삼성반도체가 현재 시장점.. |
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| 삼성
반도체 사업부 사례 분석
반도체의 개념및 사례요약
반도체
정보의 저장 or 논리적인 계산 및 처리능력을 갖는 부품을 생산하는 산업
비메모리반도체 산업 : 연산 or 제어기능(시스템반도체)
메모리반도체 산업 : 정보 저장
메모리반도체 산업
메모리반도체는 정보를 저장하는 용도로 사용되는 반도체를 말함.
인간의 기억·기록 능력을 전자적 수단에 의해 실현하는 장치.
삼성반도체가 현재 시장점.. |
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| 1. 불산은 무엇인가
(1) 불산이란
불산은 수소의 플루오린화물로서 발연성이 강한 무색의 유독성 액체이다. 정식 명칭은 플루오린화수소이고, 불화수소산, 플루오르산이라고도 불린다.
(2) 불산은 어디에 이용하는가
불산은 반응성이 풍부해 촉매제나 탈수제로 이용하고, 반도체 실리콘웨이퍼의 불필요한 부분을 녹임으로 반도체 산업에 많이 사용하고 있다. 유리를 녹일 수 있기 때문에 예전부터 유.. |
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| 실험 1 : Cleaning Oxidation
1. 실험 목적
MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 첫 번째 공정에 해당하는 Wafer cleaning Oxidation 공정을 실시한다. 산화 온도를 고정하고 산화 시간을 조정 하였을 때 Oxide 층의 두께 변화에 어떤 영향을 주는지 확인하여본다.
2. 실험 방법
가. 실험 변수
Wafer
Oxidation temperature
Oxidation time
Si (100)
p-type, 1~10 cm
1000℃
2 hours
4 hours
6 hours
나.. |
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| 제목 : 산화 공정 (Oxidation)
목적 : 반도체 소자 제조 공정 중 하나로 고온에서 산소나 수증기를 주입시키고 열을 가해 실리콘 웨이퍼 표면에 얇고 균일한 실리콘 산화막을 형성 시키는 공정이다. 실리콘 산화막은 실리콘 표면에 원하지 않는 오염을 방지하는 역할 뿐 아니라 반도체소자에 서 매우 우수한 절연체로 전류와 도핑물질의 이동을 막는데 사용되는 물질로 고품질 의 SiO₂박막을 성장시키는 산.. |
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| 목차
1.상처 드레싱의 종류
2.상처드레싱의 목적
3.Wet to damp 드레싱의 문제점
4.상처드레싱에서 중요한 상처 청결
5.상처드레싱 간호
상처 드레싱의 종류와 처치방법
1.상처 드레싱의 종류
드레싱
설명
목적
종류
투명 접착성 필름/상처보호막
(Transparent adhesive films/wound barriers)
접착성 플라스틱, 반영구적, 비흡수성 드레싱으로 상처와 외부환경 사이에 산소교환이 가능하다. 세균과 물은 .. |
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| FET특성 및 증폭기
1. 관련 이론
전기장 효과 트랜지스터(FET: field effect transistor)
: 단극(單極)트랜지스터 또는 FET라고도 한다. 원리는 반도체의 소스(source)에서 집전극(集電極)의 드레인(drain)에 흐르는 전자류(電子流)를 게이트(gate)에 가한 전압에 의한 전기장으로 제어하는 것이다. 즉, 채널의 저항을 변화시켜 다수 캐리어의 흐름을 제어하는 것이다.
실효단면적을 변화시키는 것과(.. |
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| 디스플레이공학
제목 : 그래핀 소재에 관한 연구
- 목 차 -
Ⅰ. 기술의 개요
1. 기술의 중요성(필요성)
2. 국내․외 관련기술의 현황
3. 기술의 예상 파급효과
4. 기술의 예상 활용방안
Ⅱ. 시장 및 기업의 현항
1. 시장규모
2. 국내외 관련 기업의 현황
Ⅲ. 기술의 내용
1. 기본(현재) 기술
2. 기술 개발의 방향 및 내용
IV. 결론
1.
2.
* 참고자료
Ⅰ. 기술의 개요
1. 사업의 중요성(필요.. |
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| 이 경험을 통해 저는 2가지를 배울 수 있었습니다.
공정개발은 크게 두 가지 목표를 지향합니다.
생산 효율 향상과 최적 공정 조건 개발입니다.
이 과정을 통해 해당 전공의 내용을 더 정확히 이해할 수 있었습니다.
교외에서는 반도체 공정실습을 할 기회를 찾았습니다.
이 경험을 통해 반도체의 핵심 이슈 및 최적화하기 위한 공정 효율을 배울 수 있었습니다.
삼성의 도전정신과 최고를 지향하는 가치관.. |
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b, 공정, 반도체, 설명, 자동차, 삼성, 님, 이다, 기술, 전공, 노력, 부분, 생각, 이해, 목표, 엔지니어, 진행, 화, 가지, 직무 |
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| 빛의 분산 및 간섭
실험조건 : (온도) 16°C, (습도) 38%, (날씨) 흐림
1. 실험 목적
1) 빛의 분산을 설명할 수 있다.
2) 빛이 분산을 실험으로 보여 줄 수 있다.
3) 빛의 간섭을 설명할 수 있다.
4) 빛이 간섭을 실험으로 보여 줄 수 있다.
2. 실험기자재 및 재료
적색 LD 광원 1세트, 녹색 LD 광원 1세트, 태양광, 유리 프리즘, 색 필터(R G B 각각 1장씩), 이중 슬릿 세트, 광학 레일, 회전판, 렌즈받.. |
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| 상시 유지되어야 하는 통신상황에서 신속한 문제 해결이 필수적이었습니다.
빠른 문제 해결을 위해서 끊임없이 배워야 한다고 판단하였습니다.
그 과정에서 반도체 공정지식과 공학적인 문제 해결력이 요구됩니다.
반도체 공정과정에서 웨이퍼에 발생한 문제를 해결하였고 공정지식을 기를 수 있었습니다.
채터링 방지회로를 통해 문제를 해결하다]
육군 미사일 사령부 정보통신장교로 복무하며 부대 전체의.. |
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목표, 과정, 장비, 문제, 경험, 통해, 전문성, 동아리, 제품, 달성, 위해, 해결, 확인, 위, 새롭다, 계획, 대회, 기술, 개발, 시도 |
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| 유해화학물질관리
목차
Ⅰ. 유해화학물질 및 유해화학물질관리정책
분해되기 어렵고, 생물의 체내에 축적되기 쉬운 화학물질이 환경 속에 다량으로 방출될 경우 농작물이나 어패류에 가장 먼저 스며들게 됨. 인간이 이를 장기간에 걸쳐 섭취하게 되면 건강에 치명적인 영향을 받게 됨
급성 독성, 어독성, 변이원성, 발암성 등 일정한 지정기준에 의해 환경부장관이 고시한 것으로 유독물, 관찰물질 등
유해.. |
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| 모의투자
보고서
1. 기업소개
OCI는 RENEWABLE ENERGY, 무기화학, 석유석탄화학, 정밀화학, 단열재 분야에서 카본블랙, 핏치, TDI, 과산화수소, 과탄산소다, 소다희, 흄드실리카를 비롯하여 반도체 웨이퍼 및 태양전지의 핵심원료인 폴리실리콘 등을 생산, 판매하고 있으며 술출비중이 70%이상을 차지하는 글로벌 기업으로, 끊임없는 혁신으로 직원, 고객 주주 및 이해관계자에게 최상의 만족을 제공하는 .. |
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| 기업분석
OCI
Ⅰ. 기업소개
1. 기업소개
OCI는 Renewable Energy, 무지 화학, 석유석탄 화학, 단열재 분야에서 카본 블랙, 핏치, TDI, 과산화 수소, 과산화 소다, 소다회, 흉드실리카를 비롯하여 반도체 웨이퍼 및 태양전지의 핵심원료인 폴리실리콘 등을 생산, 판매하고 수출 비중이 70%이상을 차지하는 기업이다.
2. 설립일자 및 존속기간
OCI주식회사는 소다회 및 관련제품의 제조판매를 주 사업 목.. |
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| 최고를 위해 아낌없이 투자하고 연구하는 삼성의 도전적인 자세는 패키지 개발 엔지니어가 가져야 할 참된 태도와 같다고 생각합니다.
삼성전자 DS의 TSP 총괄의 엔지니어가 된다면 전반적 직무에 대한 이해와 원활한 의사소통으로 문제를 적기에 발굴 및 해결하여 반도체 공정 품질을 확보하고 원가경쟁력을 향상하기 위해 노력하겠습니다.
패키지 개발 직무에 가장 기본이 되는 역량은 단연 반도체 공정 .. |
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기술, 제품, 엔지니어, 반도체, 업무, 개발, 직무, 문제, 진행, 생각, 대한, 패키지, 되어다, 원인, 공정, 이슈, 삼성, 배우다, 해결, 사용 |
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