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| 이 경험을 통해 사소한 변화가 작업 효율을 향상하고, 결과적으로 불량률을 줄이는 프로세스에 도움이 된다는 것을 배웠습니다.
이 경험을 통해 불량률을 줄이기 위한 각 라인에서의 노력과 맡은 업무를 적극적으로 처리하려는 자세의 중요성을 깨달았습니다.
그래서 명지대 반도체 공정실습에 참여하여 실제 웨이퍼를 통해 오염에 대한 교육과 Fab공정, 이슈를 경험했습니다.
3학년 2학기 때, 팀 프로젝트 .. |
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경험, 위해, 목표, 과정, 통해, 기술, 약품, 공정, 전문성, 자다, 10, 내, 역할, 위, 결과, 증명, 근거, 드러나다, 1000, 단락 |
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| 박막형 태양전지 CIGS
목차
CIGS의 발전배경
What is CIGS
CIGS의 박막기술
CIGS의 박막기술(국내 기술 동향)
CIGS의 특징
CIGS의 장점
CIGS의 단점
CIGS의 시장
CIGS의 미래
Reference
CIGS 발전배경
기존 결정질 Si 태양전지
· 장점 : 고효율, 신뢰성
· 단점 : 저가화 한계
두께 한계 : 2~300um
공정이 단속적
기존 기술의 보완
· 고효율, 저가화
· 박판 직접 제조, 구형화, 원료 재생
· 웨이퍼 박형화 .. |
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| 삼성
반도체 사업부 사례 분석
반도체의 개념및 사례요약
반도체
정보의 저장 or 논리적인 계산 및 처리능력을 갖는 부품을 생산하는 산업
비메모리반도체 산업 : 연산 or 제어기능(시스템반도체)
메모리반도체 산업 : 정보 저장
메모리반도체 산업
메모리반도체는 정보를 저장하는 용도로 사용되는 반도체를 말함.
인간의 기억·기록 능력을 전자적 수단에 의해 실현하는 장치.
삼성반도체가 현재 시장점.. |
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| 삼성
반도체 사업부 사례 분석
반도체의 개념및 사례요약
반도체
정보의 저장 or 논리적인 계산 및 처리능력을 갖는 부품을 생산하는 산업
비메모리반도체 산업 : 연산 or 제어기능(시스템반도체)
메모리반도체 산업 : 정보 저장
메모리반도체 산업
메모리반도체는 정보를 저장하는 용도로 사용되는 반도체를 말함.
인간의 기억·기록 능력을 전자적 수단에 의해 실현하는 장치.
삼성반도체가 현재 시장점.. |
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| 특히, 공정기술엔지니어로서 반도체 제조공정을 최적화하고, 생산효율성을 높이는 역할을 수행하고 싶어 지원하게 되었습니다.
저는 반도체 공정실험과 데이터 분석 경험을 바탕으로, 실제 공정에서 발생하는 문제를 해결하는 역량을 키워왔습니다.
저는 반도체 공정 및 제조기술에 대한 실무 경험을 쌓으며, 공정 최적화 및 문제 해결 역량을 길러왔습니다.
저는 대학 연구실에서 데이터 기반의 문제 해결.. |
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공정, 반도체, 분석, 수행, 연구, 기술, 최적화, 경험, 문제, 해결, 데이터, 통해, 불량, 싶다, 역할, 실험, 칩, 매그, 조건, 지속 |
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| 1. 불산은 무엇인가
(1) 불산이란
불산은 수소의 플루오린화물로서 발연성이 강한 무색의 유독성 액체이다. 정식 명칭은 플루오린화수소이고, 불화수소산, 플루오르산이라고도 불린다.
(2) 불산은 어디에 이용하는가
불산은 반응성이 풍부해 촉매제나 탈수제로 이용하고, 반도체 실리콘웨이퍼의 불필요한 부분을 녹임으로 반도체 산업에 많이 사용하고 있다. 유리를 녹일 수 있기 때문에 예전부터 유.. |
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| 이러한 경험을 바탕으로, 큐알티에서 FIB 장비를 활용한 미세분석 및 반도체 품질 개선에 기여하고 싶습니다.
정밀한 데이터를 바탕으로 결함을 분석하고, 최적의 개선방안을 도출하는 역할을 수행하며, 반도체 신뢰성 향상에 이바지하겠습니다.
큐알티에서도 반복적인 실험 과정을 통해 최적의 분석법을 찾고, 반도체 품질을 개선하는 데 기여하고 싶습니다.
이러한 경험을 바탕으로 큐알티에서도 체계적인.. |
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분석, 실험, 반도체, 가장, 역량, 경험, 중요하다, 데이터, 큐, 알티, 본인, 능력, 결과, 결함, 위해, 시오, 정밀, 싶다, 통해, 수준 |
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| 실험 1 : Cleaning Oxidation
1. 실험 목적
MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 첫 번째 공정에 해당하는 Wafer cleaning Oxidation 공정을 실시한다. 산화 온도를 고정하고 산화 시간을 조정 하였을 때 Oxide 층의 두께 변화에 어떤 영향을 주는지 확인하여본다.
2. 실험 방법
가. 실험 변수
Wafer
Oxidation temperature
Oxidation time
Si (100)
p-type, 1~10 cm
1000℃
2 hours
4 hours
6 hours
나.. |
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| 제목 : 산화 공정 (Oxidation)
목적 : 반도체 소자 제조 공정 중 하나로 고온에서 산소나 수증기를 주입시키고 열을 가해 실리콘 웨이퍼 표면에 얇고 균일한 실리콘 산화막을 형성 시키는 공정이다. 실리콘 산화막은 실리콘 표면에 원하지 않는 오염을 방지하는 역할 뿐 아니라 반도체소자에 서 매우 우수한 절연체로 전류와 도핑물질의 이동을 막는데 사용되는 물질로 고품질 의 SiO₂박막을 성장시키는 산.. |
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| 목차
1.상처 드레싱의 종류
2.상처드레싱의 목적
3.Wet to damp 드레싱의 문제점
4.상처드레싱에서 중요한 상처 청결
5.상처드레싱 간호
상처 드레싱의 종류와 처치방법
1.상처 드레싱의 종류
드레싱
설명
목적
종류
투명 접착성 필름/상처보호막
(Transparent adhesive films/wound barriers)
접착성 플라스틱, 반영구적, 비흡수성 드레싱으로 상처와 외부환경 사이에 산소교환이 가능하다. 세균과 물은 .. |
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| FET특성 및 증폭기
1. 관련 이론
전기장 효과 트랜지스터(FET: field effect transistor)
: 단극(單極)트랜지스터 또는 FET라고도 한다. 원리는 반도체의 소스(source)에서 집전극(集電極)의 드레인(drain)에 흐르는 전자류(電子流)를 게이트(gate)에 가한 전압에 의한 전기장으로 제어하는 것이다. 즉, 채널의 저항을 변화시켜 다수 캐리어의 흐름을 제어하는 것이다.
실효단면적을 변화시키는 것과(.. |
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| 반도체 제조공정에서 발생하는 수율 저하 원인을 분석하고, 공정변수를 최적화하는 연구를 수행했습니다.
경험]반도체 공정 자동화 프로젝트/[소속] OO 대학교 반도체 프로세스 연구팀/[역할] 제조공정 데이터 분석 및 최적화
반도체 양산 공정에서 발생하는 불량률을 줄이기 위한 연구를 수행하며 도전적인 목표를 설정하고 해결해 나갔습니다.
반도체 공정에서 발생하는 미세결함을 줄이기 위해 공정변수.. |
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공정, 반도체, 연구, 분석, 양산, 경험, 기술, 통해, 데이터, 결함, 최적화, 발생, 해결, 프로젝트, 위해, 률, 역할, 불량, 위, 개선 |
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| 디스플레이공학
제목 : 그래핀 소재에 관한 연구
- 목 차 -
Ⅰ. 기술의 개요
1. 기술의 중요성(필요성)
2. 국내․외 관련기술의 현황
3. 기술의 예상 파급효과
4. 기술의 예상 활용방안
Ⅱ. 시장 및 기업의 현항
1. 시장규모
2. 국내외 관련 기업의 현황
Ⅲ. 기술의 내용
1. 기본(현재) 기술
2. 기술 개발의 방향 및 내용
IV. 결론
1.
2.
* 참고자료
Ⅰ. 기술의 개요
1. 사업의 중요성(필요.. |
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| 이 경험을 통해 저는 2가지를 배울 수 있었습니다.
공정개발은 크게 두 가지 목표를 지향합니다.
생산 효율 향상과 최적 공정 조건 개발입니다.
이 과정을 통해 해당 전공의 내용을 더 정확히 이해할 수 있었습니다.
교외에서는 반도체 공정실습을 할 기회를 찾았습니다.
이 경험을 통해 반도체의 핵심 이슈 및 최적화하기 위한 공정 효율을 배울 수 있었습니다.
삼성의 도전정신과 최고를 지향하는 가치관.. |
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b, 공정, 반도체, 설명, 자동차, 삼성, 님, 이다, 기술, 전공, 노력, 부분, 생각, 이해, 목표, 엔지니어, 진행, 화, 가지, 직무 |
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| 빛의 분산 및 간섭
실험조건 : (온도) 16°C, (습도) 38%, (날씨) 흐림
1. 실험 목적
1) 빛의 분산을 설명할 수 있다.
2) 빛이 분산을 실험으로 보여 줄 수 있다.
3) 빛의 간섭을 설명할 수 있다.
4) 빛이 간섭을 실험으로 보여 줄 수 있다.
2. 실험기자재 및 재료
적색 LD 광원 1세트, 녹색 LD 광원 1세트, 태양광, 유리 프리즘, 색 필터(R G B 각각 1장씩), 이중 슬릿 세트, 광학 레일, 회전판, 렌즈받.. |
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