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| 저는 반도체 공정실험을 다수 수행하면서, 식각공정에서 발생하는 미세 패턴 변형 및 결함분석에 대한 경험을 쌓아왔습니다.
또한, 공정데이터 분석 역량을 강화하여, 공정개선 및 문제 해결 과정에서 핵심적인 역할을 수행할 계획입니다.
반도체 공정연구를 수행하며, 식각공정 최적화를 위한 실험을 진행한 경험이 있습니다.
해당 연구에서는 습식 식각공정을 활용하여 나노 패턴을 형성하는 실험을 진행.. |
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| 반도체 전前공정 및 CVD 공정
반도체 전前공정요약
웨이퍼제조공정
12
웨이퍼8대가공공정
1.산화
2.감광액
5.식각
3.노광
6.이온주입
4.현상
8.금속배선
7.화학기상증착
CVD
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| 실험: Dry etching
1. 실험 목적
MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 Photolithography 공정을 실시한 후 Si기판을
플라즈마를 이용하여 식각하는 공정인 Dry etching 을 실시하며 FE-SEM을 이용하여
SiO2 inspection을 측정한다. 이번 실험에서 전원의 세기를 300와트로 에칭 시간을
3min, 5min, 7min으로 변화를 주어 에칭 시간을 조정함에 따라 제품의 SiO2 inspection이
어떤 영향을 받는지 확인하고.. |
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| 반도체 공정기술 중 가장 관심 있는 공정은 무엇이며, 그 이유는 무엇인가요?
삼성전자의 반도체 공정기술 부문에서 식각과 같은 핵심 공정을 고도화하는 연구에 기여하고 싶습니다.
이처럼 반도체 공정 개발은 단편적인 실험의 반복이 아니라, 공정 간 연계성과 rootcause 분석을 위한 논리적 구조화가 필수적입니다.
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| 입사 후에는 이러한 기반을 활용하여 기술원의 공정 모듈 최적화 및 공정기술 내재화에 기여하고 싶습니다.
석사과정 중 수행한 반도체 패키징 공정개발 프로젝트에서 다음과 같은 역할과 성과를 거두었습니다.
Fan-out 기반 RDL 형성 공정의 식각 및 세정조건 개발을 담당하였으며, PR잔류물 제거를 위해 Dry/Wethy bridcleaning 조건을 도입하고 수율을 10% 이상 개선함.
5년 이내에는 후속 프로젝트의 실.. |
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| 협업과 소통 경험을 통해 배운 점
대학 시절 저는 학부 연구생으로 참여하며 직접 클린룸에서 공정실험을 수행한 경험이 있습니다.
ALD 공정 중 두께 균일도를 확보하지 못해 반복 실험을 수행했던 경험이 있습니다.
특히나노구조 기반 바이오센서나 환경소자의 공정기술을 개발해, 인류 삶의 질 향상에 실질적으로 기여하는 연구자가 되고 싶습니다.
특히 반도체 소자의 스케일이나 노미터 단위로 진입함에.. |
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| 그리고 이는 자연스럽게 '재현 가능한 실험'을 위한 기반이 되었고, 이후 진행한 OLED 소자 측정에서도 동일한 방식으로 데이터를 신뢰도 있게 쌓을 수 있었습니다.
대학 시절부터 유기 재료 및 박막 증착 기술에 흥미를 갖고 실험실에 소속되어 다양한 소자 개발 실험을 수행해 왔습니다.
디스플레이 개발은 증착, 패터닝, 식각, 측정 등 다양한 공정 파트가 유기적으로 연결된 시스템이기에, 단독이 아닌 .. |
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| 저는 Depos ition공정기술과 소재기술의 개발을 위해 삼성전자 DS부문 생산기술연구소에 지원하였습니다.
이러한 공정기술의 발전은 미세 패턴의 구현을 이끌 것입니다.
삼성 속에서 반도체 기술을 선도하는 가치 있는 생산기술 전문가가 되도록 하겠습니다.
블라인드 채용, 공정채용일까 역차별일까]
생산기술연구소 공정개발 직무는 EUV를 넘어서는 초미세 패턴을 구현하기 위해 식각기술이나 Deposition,.. |
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| 특히, 공정기술엔지니어로서 반도체 제조공정을 최적화하고, 생산효율성을 높이는 역할을 수행하고 싶어 지원하게 되었습니다.
저는 반도체 공정실험과 데이터 분석 경험을 바탕으로, 실제 공정에서 발생하는 문제를 해결하는 역량을 키워왔습니다.
저는 반도체 공정 및 제조기술에 대한 실무 경험을 쌓으며, 공정 최적화 및 문제 해결 역량을 길러왔습니다.
저는 대학 연구실에서 데이터 기반의 문제 해결.. |
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| 반도체 공학 - 반도체 제조 공정 단계
목 차
1. 단결정 성장
2. 규소봉 절단
3. Wafer 표면 연마
4. 회로 설계
5. Mask 제작
6. 산화공정
7. 감광액 도포
8. 노광공정
9. 현상공정
10. 식각공정
11. 이온주입공정
12. 화학기상 증착
13. 금속배선
14. Wafer 자동선별
15. Wafer 절단
16. 칩 집착
17. 금속연결
18. 성 형
1. 단결정 성장
특수 공정을 이용해 웨이퍼 위에 전자회로를 새긴 후, 웨이퍼 위 .. |
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| 특히, 소자의 전기적 특성을 분석하고 성능을 개선하는 연구에 주력하며, 반도체 기술의 핵심 요소를 직접 다루는 경험을 쌓았습니다.
경험]반도체 소자 특성 분석 연구
경험]반도체 소자 공정 개선 프로젝트
반도체 소자의 성능을 높이기 위해 어떤 방식의 연구를 진행했나요?
특히, 소자의 전기적 특성을 분석하고 성능을 개선하는 연구에 주력하며, 반도체 기술의 핵심 요소를 직접 다루는 경험을 쌓았습.. |
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| Hazard of TFT-LCDManufacturing Process
2004. 4. 26
한 승 용
Contents
TFT-LCD(Thin Film Transistor LCD)
LC(Liquid Crystal)
Manufacturing Process
TFT Process
Cell Process
Module Process
Hazards
MSDS NFPA 704 M Code
TFT-LCD
구성
TFT가 형성되어 있는 아래 유리기판
Color Filter가 형성되어 있는 윗 유리기판
TFT 와 Color Filter 사이에 주입된 액정(LC)으로 구성
원리
TFT는 전기적 신호.. |
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| 프라즈마 공학
1. 플라즈마란 무엇인가
플라즈마라는 말을 물리학 용어로 처음 사용한 사람은 미국의 물리학자 Langmuir (랑뮈어)로서, 전기적인 방전으로 인해 생기는 전하를 띤 양이온과 전자들의 집단을 플라즈마라고 하고 그 물리적인 성질을 연구하는 것이 플라즈마 물리학이다.
물질 중 가장 낮은 에너지 상태는 고체이다. 이것이 열(에너지)을 받아서 차츰 액체로 되고 그 다음에는 기체로 전이를.. |
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| 반도체 제조공정에서 발생하는 수율 저하 원인을 분석하고, 공정변수를 최적화하는 연구를 수행했습니다.
경험]반도체 공정 자동화 프로젝트/[소속] OO 대학교 반도체 프로세스 연구팀/[역할] 제조공정 데이터 분석 및 최적화
반도체 양산 공정에서 발생하는 불량률을 줄이기 위한 연구를 수행하며 도전적인 목표를 설정하고 해결해 나갔습니다.
반도체 공정에서 발생하는 미세결함을 줄이기 위해 공정변수.. |
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| 전기전자 - 반도체 소자의 제작공정 MEMS
목 차
#반도체 소자의 제작공정
#MEMS (micro electro mechanical systems)
반도체 소자의 제작공정
1단계 단결정 성장
고순도로 정제된 실리콘 용융액에 SEED 결정을 접촉, 회전시키면서 단결정규소봉(INGOT)을 성장시킴
2단계 규소봉절단
성장된 규소봉을 균일한 두께의 얇은 웨이퍼로 잘라낸다. 웨이퍼의 크그는 규소봉의 구경에 따라
3 ,4 ,6 ,8 로 만들어.. |
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