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| 연료전지를 이용한 이산화탄소 처리
CONTENTS
01.
주제 선정 배경
온실가스
온실가스의 대부분을 차지하는 CO₂
☞ 전 지구적으로 CO₂를 포함한
온실가스 배출을 저감하려는 노력 필요
‘온실가스 배출권의 할당 및 거래에 관한 법률안’
2012년 5월 2일 18대 국회 통과!
연 12만5000 CO₂t 이상 배출업체
연 2만5000 CO₂t 이상 사업장(의무적용)
☞ 2015년1월 1일부터 본격 시행
우리나라도 .. |
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| 액정(LCD)란 무엇인가
1.액정이란
액정은 세포막과 비슷한 고체와 액체의 중간 물질입니다.
2.한 방향으로 배열된 분자액정이란 무엇인가
고체와 액체의 중간성질을 갖는 물질로, 비눗물이나 오징어의 먹물 그리고 우리 몸의 세포막도 그 일종입니다. 고체에서는 분자가 정확히 배열되어 있지만, 액체에서는 분자가 아무런 배열 없이 제멋대로 존재합니다. 액정이란 그 중간의 상태로 결국 고체만큼은 아.. |
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| 치과용 시멘트는 다양한 용도로 사용될 수 있으나 치과에서의 주된 용도는 삭제된 치아에 대한 수복물의 유지력을 제공하는 접착제로서의 기능과 형성된 와동을 영구 또는 임시로 충전하는 수복재로서의 기능이다.
1. 접착 및 수복
인산아연 시멘트(ZPC, Zinc Phospate Cement)
ZPC는 오랜 역사를 가지고 있는 치과용 시멘트로서 치아와 열전도율은 비슷한 우수 단열재이다. 고강도 베이스용으로 분말을 .. |
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| 1. 실험 방법
전해질 용액을 제조한다.
-먼저 0.1M의 텅스텐 전해질 용액 50ml를 만든다. 제조 방법은 텅스텐파우더 0.9206g을 전자저울을 이용하여 측정한다. 그 다음 10.2ml의 H₂O₂를 메스실린더로 측정한 후 비커에서 텅스텐 분말을 녹인다. H₂O를 사용하지 않고 H₂O₂를 사용하는 이유는 텅스텐 분말은 물에 잘 녹지 않아 먼저 H₂O₂에 녹인 후 AO-Di나촉매를 이용하여 물로 변환하는 것이다. 텅스텐 분.. |
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| 세라믹스 제조공정
1.세라믹스의 정의
무기물질을 주원료로 사용하는 산화물(Oxide), 질화물(Nitride), 탄화물(Carbide)등의 재료를 뜻한다. 이러한 재료는 일반적으로 금속재료, 유기재료에 비하여 내식성, 내열성, 내마모성 등이 매우 크며 다양한 기능(전자기적기능, 기계적기능, 광학적기능, 생체적기능 등)을 갖는 현대공업재료 중 가장 중요한 위치를 차지한다. Computer의 기억소자 및 전자공업의 .. |
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| 대기 오염의 원인 중 가스상 물질
Ⅰ. 황산화물 (SOx ; Sulfur Oxides)
자연에 존재하는 석탄과 oil류는 모두 0.1～0.5% 이상의 유황을 함유하며 이들 연료가 연소할 때 SO2의 SO3발생율은 40～80 : 1로 생성되며 따라서 SOx로 표시되는 황산화물에는 아황산가스(SO2), 3산화황(SO3), 아황산(H2SO3), 황산(H2SO4), 그리고 황산동(CuSO4), 황산칼슘(CaSO4), 황산마그네슘(MgSO4) 등의 황산염 등이 포함되나 .. |
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| 1. 실험목적
실험을 통해 HALL IC의 자력선 세기에 의한 동작특성과 그 원리를 이해할 수 있다.
2. 실험이론
1) Hall IC
Si 홀 소자는 자계 감도가 10~20mV/KOe 정도이고, 다른 재료를 사용한 것보다 감도가 낮은 결점이 있다. 이 결점을 개선하기 위해 IC 기술을 사용해 신호 처리 회로를 센서와 일체화 시킨 것이 Si Hall IC이다.
현재 많은 온도 센서, 압력 센서, 광센서 등의 제품이 IC화되었지만 그 .. |
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| 1. 실험목적
실험을 통해 HALL IC의 자력선 세기에 의한 동작특성과 그 원리를 이해할 수 있다.
2. 실험이론
1) Hall IC
Si 홀 소자는 자계 감도가 10~20mV/KOe 정도이고, 다른 재료를 사용한 것보다 감도가 낮은 결점이 있다. 이 결점을 개선하기 위해 IC 기술을 사용해 신호 처리 회로를 센서와 일체화 시킨 것이 Si Hall IC이다.
현재 많은 온도 센서, 압력 센서, 광센서 등의 제품이 IC화되었지만 그 .. |
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| 본 컨텐츠는 시장조사, 수요예측 전문업체인 ㈜밸류애드에서 Digital IC에 대한 시장동향 정보입니다.
작성일자를 반드시 확인하시고, 최근에 작성된 정보를 구매하시기 바랍니다.
본 컨텐츠에서는 국내 Digital IC의 2005년까지 생산액(백만원), 2005년까지 수출액(천US$), 2005년까지 수입액(천US$), 2005년까지 무역수지(천US$)이 기술되어 있습니다.
통계 중심으로 작성되어 있으며, <밸류애드.. |
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| 본 컨텐츠는 시장조사, 수요예측 전문업체인 ㈜밸류애드에서 국내 바이폴라 IC에 대한 시장현황 정보입니다.
작성일자를 반드시 확인하시고, 최근에 작성된 정보를 구매하시기 바랍니다.
본 컨텐츠에서는 국내 2002년부터 2005년까지 국내 바이폴라 IC의 사업체수(개소), 생산액(백만원), 출하액(백만원)이 기술되어 있습니다.
통계 중심으로 작성되어 있으며, <밸류애드 시장현황(2005년) [견본]>.. |
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| 본 컨텐츠는 시장조사, 수요예측 전문업체인 ㈜밸류애드에서 기타 Digital IC에 대한 시장동향 정보입니다.
작성일자를 반드시 확인하시고, 최근에 작성된 정보를 구매하시기 바랍니다.
본 컨텐츠에서는 국내 기타 Digital IC의 2005년까지 생산액(백만원), 2005년까지 수출액(천US$), 2005년까지 수입액(천US$), 2005년까지 무역수지(천US$)이 기술되어 있습니다.
통계 중심으로 작성되어 있으며,.. |
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| 실험 4 : Metal Deposition
1. 실험 목적
MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 Dry etching 을 실시한 후 Si기판 위에 금속을
증착시키는 공정인 Metal deposition 을 실시하여 기판의 면저항을 측정한다. 증착시키는
금속을 Ni로 증착 두께를 10nm, 20nm, 30nm로 변화를 주어 증착 두께를 조정함에 따라
제품의 면저항에 어떤 영향을 끼치는지 확인하고자 한다.
2. 실험 방법
가. 실험 변수
증착 금속
증.. |
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| 디지털 IC회로 설계
제 4장 클록을 만드는 회로
4.1 CR의 딜레이 발진회로
CR발진회로(74LS04)
(3) C-MOS 2단의 발진 회로(TC74HC04)
(4) C-MOS 3단의 발진 회로
(5) 발진회로를 제어하는 방법
(7) 시미트 트리거를 이용한 발진회로
시미트 트리거를 이용한 발진회로의 발진제어
제 5장 플립플롭
D래치(74LS75)
RS 플립플롭
D 플립플롭(74LS74)
제 6장 카운터 회로
(2) 비동기 카운터
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| Bipolar Digital IC, Bipolar, Digital, IC, Bipolar Digital, Bipolar IC, Digital IC, 아이시, 아이씨, 집적회로, IC, 회로, 집적, 바이, 폴라, 바이폴라IC 바이폴라, 바이폴라 IC, 바이폴라 집적회로, 바이폴라집적회로, 1995년, 1996년, 1997년, 1998년, 1999년, 2000년,
1995년 1분기부터 2002년 3분기까지 분기별 바이폴라집적회로의 생산, 출하(내수, 수출) 재고 현황 및 전년대비 증감율 표와 그래.. |
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