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| 본 컨텐츠는 시장조사, 수요예측 전문업체인 ㈜밸류애드에서 국내 무기안료 및 기타 금속산화물 제조업 관련 제조업체 간략정보로 업체명, 설립일, 기업형태, 주업종, 취급품목, 주소, TEL, FAX 정보가 제공됩니다.
업체조사 결과에 따라 2002년부터 2005년까지 자본금, 매출액, 종업원수가 제공(연간 자본금, 매출액, 종업원수는 제공되지 않을수 있음)되며, 작성일자와 견본을 반드시 확인하시고, 최근.. |
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| [금속부식] 스테인리스 강의 부식
1.실험제목
스테인리스 강의 부식
2.실험목적
오스테나이트계와 페라이트계의 대표적인 강종인 STS304와 STS430의 부식액 농도, 시간변화에 따른 차이를 비교 분석해 본다.
3.실험이론
1)금속의 부식
금속이 주어진 환경의 성분과 화합하여 비금속 산화물을 만들어 금속으로의 성질과 성능을 잃고 소모해가는 현상을 금속의 부식이라 한다.
2)스테인리스강의 부식 종류.. |
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| [일반화학실험] 산화-환원 적정(과망간산법)
Ⅰ.실험 목표
1) 과망간산칼륨과 과산화수소의 산화-환원 반응을 이용해서 과산화수소의 순도를 결정한다.
2) 산화-환원 반응, 산화제, 환원제의 대한 이론들을 익히고 산화-환원 적정을 한다.
Ⅱ.이론
1.산화와 환원(oxidation-reduction)
1) 산화제(oxidizing agent)
산화제란 다른 물질을 산화시키는 능력을 가진 물질을 말한다. 산화제는 산소를 방출하기 .. |
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| 무기안료, 기타, 금속산화물, 제조업, 연도별, 사업체수, 월평균종사자수, 연간급여액, 출하액, 생산액, 부가가치, 유형고정자산 연말잔액, 주요생산비, 그래프, 연간자료, 제조업시장동향, 시장, 동향, 년간, 년간동향, Manufacture of Inorganic Pigments and Other Metal
1991년부터 2000년까지 연도별 무기안료 및 기타 금속산화물 제조업의 사업체수, 월평균종사자수, 연간급여액, 출하액, 생산액, 부.. |
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무기안료, 기타, 금속산화물, 제조업, 연도별, 사업체수, 월평균종사자수, 연간급여액, 출하액, 생산액, 부가가치, 유형고정자산 연말잔액, 주요생산비, 그래프, 연간자료, 제조업시장동향, 시장, 동향, 년간, 년간동향, Manufacture of Inorganic Pigments and Other Metal |
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| 본 컨텐츠는 시장조사, 수요예측 전문업체인 ㈜밸류애드에서 무기안료 및 기타 금속산화물에 대한 시장동향 정보입니다.
작성일자를 반드시 확인하시고, 최근에 작성된 정보를 구매하시기 바랍니다.
본 컨텐츠에서는 [세세분류] 무기안료 및 기타 금속산화물에 대한 간략 개요, 산업동향(2003년부터 2005년까지), 산업 동향 분석 등이 기술되어 있습니다.
통계 중심으로 작성되어 있으며, <밸류애.. |
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| [환경분석실험] 질소산화물 - 흡광광도법(아연환원나프틸에틸렌디아민법)
1. 실험목적
이번 실험에 이용할 흡광광도법(아연환원나프틸에틸렌디아민법)은 시료중의 질소산화물을 오존 존재하에서 물에 흡수시켜 질산이온으로 만든다. 이 질산이온을 분말금속아연을 사용하여 아질산이온으로 환원한 후 술포닐 아미드 및 나프틸에틸렌디아민을 반응시켜 얻어진 착색의 흡광도로부터 질소산화물을 정량하는 .. |
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| 1.1.목적
알루미늄 착물을 이용하여 질화알루미늄(AlN)분말을 합성하고, AlN이 생성되는 반응과정, 즉 반응메카니즘을 추정해 본다.
1.2.이론
최근 반도체 소자의 소형화와 고집적화에 따라 회로 단위면적당 방출하는 열의 증가로 칩의 온도가 상승하여 회로의 신뢰도 및 수명이 떨어지는 문제점이 생기게 되었다. 따라서 회로에서 방출되는 열을 효율적으로 방출시켜 회로를 보호하기 위해 높은 열전도도.. |
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| 개 요
▷ 실험 주제
▷ 실험 목적
▷ 사전 조사
▷ 실험 준비물
▷ 실험 순서
▷ 실험 방법
▷ 실험 결과
▷ 후기 및 고찰
1. 실험 주제
⇒ STS 304, S45C, AZ91HP의 조직 관찰
2. 실험 목적
우리는 일상 생활 속에서 수많은 종류의 금속으로 이루어진 제품들을 이용하면서 생활하고 있습니다. 그냥 만들어 진 것 같지만 모든 금속제품들은 그 용도나 쓰이는 장소에 따라 셀 수 없는 종류의 각기 .. |
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제련 ( 12Pages ) |
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■ 건식제련(乾式製鍊)
● 용융제련(熔融製鍊)
용융제련(smelting of ore)은 광석 또는 정광을 로내에서 용융시켜 목적금속을 조금속(粗金屬), 매트(matte), 스파이스(speiss) 등의 반제품으로 회수하고 광석 중의 맥석류를 슬랙(slag)으로 만들어 충분히 제거하는 조작이다. 이 때 필요에 따라 제련 예비 처리인 선광, 배소, 단광, 소결 등을 선행해야 할 때도 있다. 용융제련을 편의상 농축된 황화.. |
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| 실험제목
탄산염의 분석
실험목적
탄산염이 염산과 반응하여 발생하는 이산화탄소의 양을 측정해서 탄산염의 종류를 알아낸다.
실험도구
- 스탠드, 클램프, 뷰렛, 수위조절용기(분별깔때기), 100mL 삼각플라스크 2개, 파라필름, 10mL 메스실린더, 폴리글루브, 5mL Vial 2개
탄산염(Li2CO3, Na2CO3, K2CO3), 이산화탄소로 포화된 물 (한 조당200mL 가량), 6M HCl용액 (한 조당 20mL 2회)
실험원리
실험원.. |
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| 실험제목
탄산염의 분석
실험목적
탄산염이 염산과 반응하여 발생하는 이산화탄소의 양을 측정해서 탄산염의 종류를 알아낸다.
실험도구
- 스탠드, 클램프, 뷰렛, 수위조절용기(분별깔때기), 100mL 삼각플라스크 2개, 파라필름, 10mL 메스실린더, 폴리글루브, 5mL Vial 2개
탄산염(Li2CO3, Na2CO3, K2CO3), 이산화탄소로 포화된 물 (한 조당200mL 가량), 6M HCl용액 (한 조당 20mL 2회)
실험원리
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| 실험제목
탄산염의 분석
실험목적
탄산염이 염산과 반응하여 발생하는 이산화탄소의 양을 측정해서 탄산염의 종류를 알아낸다.
실험도구
- 스탠드, 클램프, 뷰렛, 수위조절용기(분별깔때기), 100mL 삼각플라스크 2개, 파라필름, 10mL 메스실린더, 폴리글루브, 5mL Vial 2개
탄산염(Li2CO3, Na2CO3, K2CO3), 이산화탄소로 포화된 물 (한 조당200mL 가량), 6M HCl용액 (한 조당 20mL 2회)
실험원리
실험원.. |
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| 실험제목
탄산염의 분석
실험목적
탄산염이 염산과 반응하여 발생하는 이산화탄소의 양을 측정해서 탄산염의 종류를 알아낸다.
실험도구
- 스탠드, 클램프, 뷰렛, 수위조절용기(분별깔때기), 100mL 삼각플라스크 2개, 파라필름, 10mL 메스실린더, 폴리글루브, 5mL Vial 2개
탄산염(Li2CO3, Na2CO3, K2CO3), 이산화탄소로 포화된 물 (한 조당200mL 가량), 6M HCl용액 (한 조당 20mL 2회)
실험원리
실험원.. |
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| 용접결함 검사 및 시험
용접에서 발생하는 결함의 종류와 검사 및 시험의 종류는 다음 표와 같고, 이 중에서 특히 중요시 되는 것만을 설명하기로 한다.
[1] 용접결함
[1-1] 치수결함
단시간에 가열, 냉각 및 용착금속의 수축 등으로 변형과 잔류응력(殘留應力; residual stress)이 생긴다. 이와 같은 현상을 최소화하기 위해서는 용접설계와 시공법에 관한 연구가 필요하며, 그림은 용접에서 발생할 수 있.. |
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| CMOS 구체적인 설명이랍니다^^
□ 어워드 바이오스의 CMOS 셋업 □
가끔 이런 분들을 보게 됩니다. 용어 하나 하나를 너무 깊게 파고들어서
나무만 바라보려 하다가 숲을 보지 못하는 분. 제가 CMOS란
Complementary Metal-Oxide Semiconductor의 준말로 상보적 금속 산화물
반도체로 번역하며 그 제조 과정과 반도체의 동작 원리는 다음과 같다...
식으로 설명한다면 어떻게 되겠어요. 결국 반도체.. |
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