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(검색결과 약 24,846개 중 19페이지)
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| 전자문서 이용가능
[별지 제63호서식] PCT
방식심사란
담당
심사관
【Title of Document】SUBMISSION OF EXPLANATION OF THE LACK OF THE SIGNATURE(SEAL)
【Receiver】Commissioner of the Korean Intellectual Property Office
【Identification of International Application】
【International Application No.】
【Applicant】
【Name】
【Address】
【Tel. No.】
【Applicant's code.. |
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| 전자문서 이용가능
〔별지 제63호서식〕 PCT
방식심사란
담당
심사관
【Title of Document】SUBMISSION OF EXPLANATION OF THE LACK OF THE
SIGNATURE(SEAL)
【Receiver】Commissioner of the Korean Intellectual Property Office
【Identification of International Application】
【International Application No.】
【Applicant】
【Name】
【Address】
【Tel. No.】
【Applicant's c.. |
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| Metal Coted Paper, Metal, Coted, Paper, Metal Paper, Coted Paper, 종이, 금속, 박지, 금속 박지, 메탈, 금속박지 , 1995년, 1996년, 1997년, 1998년, 1999년, 2000년, 2001년, 2002년, 분기별, 생산, 출하, 내수, 수출, 생산량, 출하량, 내수량, 수출량, 재고, 재고량,
1995년 1분기부터 2002년 3분기까지 분기별 금속박지의 생산, 출하(내수, 수출) 재고 현황 및 전년대비 증감율 표와 그래프 표기 |
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Metal Coted Paper, Metal, Coted, Paper, Metal Paper, Coted Paper, 종이, 금속, 박지, 금속 박지, 메탈, 금속박지 , 1995년, 1996년, 1997년, 1998년, 1999년, 2000년, 2001년, 2002년, 분기별, 생산, 출하, 내수, 수출, 생산량, 출하량, 내수량, 수출량, 재고, 재고량, |
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| Metal Coted Paper, Metal, Coted, Paper, Metal Paper, Coted Paper, 종이, 금속, 박지, 금속 박지, 메탈, 금속박지 , 1995년, 1996년, 1997년, 1998년, 1999년, 2000년, 2001년, 2002년, 월별, 생산, 출하, 내수, 수출, 생산량, 출하량, 내수량, 수출량, 재고, 재고량, 전
1995년 1월부터 2002년 10월까지 월별 금속박지의 생산, 출하(내수, 수출) 재고 현황 및 전년대비 증감율 표와 그래프 표기 |
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Metal Coted Paper, Metal, Coted, Paper, Metal Paper, Coted Paper, 종이, 금속, 박지, 금속 박지, 메탈, 금속박지 , 1995년, 1996년, 1997년, 1998년, 1999년, 2000년, 2001년, 2002년, 월별, 생산, 출하, 내수, 수출, 생산량, 출하량, 내수량, 수출량, 재고, 재고량, 전 |
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| 전자문서 이용가능
[별지 제55호서식] PCT
방식심사란
담당
심사관
【Title of Document】NOTIFICATION OF CHANGE OF INFORMATION OF APPLICANT(AGENT·COMMON REPRESENTATIVE·INVENTOR)
【Receiver】Commissioner of the Korean Intellectual Property Office
【Identification of International Application】
【International Application No.】
【Applicant】
【Name】
【Address】
【Te.. |
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| 선배엔지니어들과 협력하여 Metalliz ation공정의 모든 단계를 철저히 학습하고, 실제 데이터와 불량 사례를 분석하며 현장의 문제 해결 능력을 기를 것입니다.
Metalliz ation공정의 핵심은 전극 패턴의 정밀도와 접촉 저항관리라고 생각합니다.
장기적으로는 차세대 셀 기술 프로젝트에 참여하여 Metallization공정혁신을 선도하고 싶습니다.
Metalliz ation공정에서 발생할 수 있는 주요
저는 Metalliz a.. |
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공정, 셀, 효율, 싶다, 전극, metalliz, ation, 기술, 기여, 태양광, 분석, 현장, 경험, 은, 불량, 연구, 트, 페이스, 관리, 성 |
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| Certificate of Retirement Annuity
Issue No.
Name :
K.I.D. No. :
Estate/Service No. :
The Period of Annuity Service :
The Amount Supplied :
Mutual Aid Temporary
Date of Supply and Demand Occurrence :
Award to bond in accordance with the provisions of soldier annuitylaw an enforcement ordinance article 11
Date :
/Official Seal Stamped/
Chief Di.. |
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| Certificate of Retirement Annuity
Issue No.
Name :
K.I.D. No. :
Estate/Service No. :
The Period of Annuity Service :
The Amount Supplied :
Mutual Aid Temporary
Date of Supply and Demand Occurrence :
Award to bond in accordance with the provisions of soldier annuitylaw an enforcement ordinance article 11
Date :
/Official Seal Stamped/
Chief Di.. |
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| 점착제에 대한 기본적인 설명입니다. (영문)
Adhesives
Classify of performance
Pressure-sensitive adhesive
Influencing factors of PSA
Crosslink
Classify of PSAs
Adhesives
Adhesion, Bonding agent
Permanent adhesion
Pressure – sensitive adhesive
Temporary adhesion
Crosslink
Metallic salt crosslink
Melamine crosslink
Isocyanate crosslink
Epoxy crosslink
Matter that require atten.. |
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| 마케팅 관리
우리는 독창적인 기술로써
“고객가치 향상”에 기여한다.
Mission
열정과 존중을 바탕으로 끊임없는 혁신과 도전을 통하여,
독창적인 기술력을 확보하고, 고객에게 최고의 가치를 제공
(Best Value Provider)하는 2012년 매출1조 달성
“비전 슬로건” BVP311
Vision
Statement
독창적 차별적
기술력 확보
글로벌 생산 및 마케팅
체계 구축
내부역량 증진 위한
체계 강화
Strategies
도 전
열 정.. |
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| TFT-LCD의 정의 및 기술 동향에 대하여 알수 있는 참고 자료 입니다.
TFT-LCD 개요
Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display의 약어
TFT(Thin Film Transister)란 전계효과 트랜지스터(FET:Field Effect Transistor)인 MOS(Metal Oxide Semiconducter)FET의 일종으로 유리기판위에 Amorphous-Silcon등의 반도체박막을 형성시켜서 FET구조를 만든 것을 말한다.
이를 응용한 전자 제품을 만들시, 어떤.. |
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| ◉ 실험 날짜:
날 씨 : 맑음
온 도 : 27°
습 도 : 43%
1. 실험 목적
- MOS Capacitor의 제작 방법과 특성을 알아본다.
C-V 등을 측정하여 원리를 이해한다.
2. 관련 지식
관련 parameters : Tox NA, ND, VFB, VT, Qf(Nf), Qm(Nm), Qit(Nit)
MOS capacitor
C-V 장치
Metal-oxide-P type Silicon
MOS Caoacitor는 전계를 이용한 소자중 하나이며, 그래서 일반적으로 MOSFET(Metal-Oxid e-Semiconduc.. |
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| CMOS 구체적인 설명이랍니다^^
□ 어워드 바이오스의 CMOS 셋업 □
가끔 이런 분들을 보게 됩니다. 용어 하나 하나를 너무 깊게 파고들어서
나무만 바라보려 하다가 숲을 보지 못하는 분. 제가 CMOS란
Complementary Metal-Oxide Semiconductor의 준말로 상보적 금속 산화물
반도체로 번역하며 그 제조 과정과 반도체의 동작 원리는 다음과 같다...
식으로 설명한다면 어떻게 되겠어요. 결국 반도체.. |
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| Wafer cleaning
1. Types and sources of contamination
Particles- 먼지, 꽃가루, clothing particles, 박테리아 등. 보통의 공간(1큐빅 피트 안에)에는0.5 micron 이상 크기의 입자 10 6 개 이상 있다. 20 micron 이상의 지름을 갖는 입자의 경우 쉽게 가라 앉으므로 주로 문제가 되는 입자는 0.1 to 20 micron 의 지름을 갖는 입자이다.
Inorganic contaminants - 염, 용액의 이온, 무거운 metal 원자... |
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| ■ 각 용접법의 특징 및 종류
용접법은 열원에 따라서 다음과 같이 분류할 수 있다. 이중에서 일반적으로 널리 쓰이는 것은 Oxy-acetylene Gas Welding법과 Gas Tungsten Arc Welding 등이 있다. Electro-slag Welding의 경우에는 아크 용접법이 아니지만 처음의 시작단계에서 아크를 사용하므로 아크용접법 또는 세미-아크용접법으로 분류하기도 한다.
표 1. 열원에 따른 대표적인 용접법
열 원
용 .. |
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