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| 학부 2학년 때 '화학공정실험Ⅰ' 과목에서 금속박막식 각 실험을 수행하며 Etchant의 조성 변화가 식각 속도와 균일성에 미치는 영향을 연구했습니다.
그 경험을 통해 공정조건 하나하나가 품질에 미치는 영향을 체감했습니다.
그 결과 데이터 누락이 줄고, 실험 반복성이 향상되었습니다.
이 경험을 통해 Etchant 개발 시 반응 자체뿐 아니라 전처리 공정 조건까지 함께 고려해야 한다는 사실을 배웠습니다... |
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공정, 실험, etchant, 데이터, 개발, 반응, 성, 경험, 식각, 분석, 조건, 연구, 통해, 결과, 속도, 팀, 조성, 변화, 이해, 기반 |
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| 학부 2학년 때 '화학공정실험Ⅰ' 과목에서 금속박막식 각 실험을 수행하며 Etchant의 조성 변화가 식각 속도와 균일성에 미치는 영향을 연구했습니다.
그 경험을 통해 공정조건 하나하나가 품질에 미치는 영향을 체감했습니다.
그 결과 데이터 누락이 줄고, 실험 반복성이 향상되었습니다.
이 경험을 통해 Etchant 개발 시 반응 자체뿐 아니라 전처리 공정 조건까지 함께 고려해야 한다는 사실을 배웠습니다... |
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| 디스플레이 공정에서 Etchant(식각액) 개발은 미세한 패턴 형성과 공정안정성을 동시에 달성해야 하는 고난도의 기술입니다.
저는 이러한 영역에서 실험적 데이터 분석 능력과 공정변수 최적화 경험을 바탕으로, 동진쎄미켐의 첨단소재 경쟁력 향상에 기여할 수 있다고 자신합니다.
결국 저의 경쟁력은 실험적 통찰, 데이터 기반 분석력, 그리고 공정안정성 확보를 위한 화학적 사고력입니다.
이러한 역량을.. |
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공정, 실험, 식각, etchant, 기술, 연구, 반응, 개발, 분석, 성, 이다, 액, 데이터, 통해, 동진쎄미켐, 조성, 프로젝트, 속도, 기여, 디스플레이 |
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| 1.실험제목 : Photolithography를 이용한 pattern형성
2.실험목적 : Photolithography에 사용하는 각 공정의 원리와 공정시 주의점을 알 수 있다.
3.실험기구, 장비, 재료 :
-Cr 증착된 기판
-Developer, Stripper, Cr etchant
4.Photolithography 공정 순서
Cleaning -] PR coating -] Soft Baking -] Mask align Exposure -] Develop -] Hard baking -] Cr etching -] Strip
5.실험방법 :
①Cr이 증착된 기.. |
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| 금속의 미세조직 관찰
1. 실험 목적
- 금속학적 원리를 기술 분야에 적용하려면 금속조직을 검사하는 방법을 알아서 제조 과정에서 일어나는 조직의 변화와 그 재료의 조직과 성질과의 상호관계를 연구하여야 한다. 금속의 내부조직을 연구하는 데에 가장 많이 사용되는 것은 현미경이며, 이것으 로 금속입자의 크기, 모양, 배열을 볼 수 있다. 이뿐 만이 아니라, 금속중의 여러 가지 상과 조직을 확인할 .. |
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| 실험 1 : Cleaning Oxidation
1. 실험 목적
MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 첫 번째 공정에 해당하는 Wafer cleaning Oxidation 공정을 실시한다. 산화 온도를 고정하고 산화 시간을 조정 하였을 때 Oxide 층의 두께 변화에 어떤 영향을 주는지 확인하여본다.
2. 실험 방법
가. 실험 변수
Wafer
Oxidation temperature
Oxidation time
Si (100)
p-type, 1~10 cm
1000℃
2 hours
4 hours
6 hours
나.. |
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