재료공학 기초실험 - 광학현미경 조직검사 실험

[재료공학기초실험보고서]

- 광학현미경 조직검사 실험

◎이론적 배경

- Etching : 화학약품을 사용하여 금속, 세라믹스, 반도체 등의 표면을 부식시키는 것. 부식 이라고도 한다. 표면 연마와 반도체의 정밀가공, 인쇄제판 공정 등에서 재료를 패턴상으로 부식시키기 위해서 한다. 최근 반도체 공업에서는 에칭액을 사용하 지 않는 드라이 에칭이 많이 사용되고 있다.

- 광학 현미경 : 표본에 빛을 비추어 그 표본을 통과한 빛이 대물렌즈에 의해 확대된 실상 을 맺고, 이것을 접안렌즈를 통해 재 확대된 상을 관찰할 수 있도록 고안 된 장치를 말한다.

◎실험결과

- 만든 시편을 에칭을 하여 광학현미경으로 관찰하였다.
시편의 종류는 다음과 같다.

Sample ; 적절한 에칭 이후 산화가
일어나기 전 시편을 관찰했을 때.

무에칭 ; 에칭을 하지 않고 시편을 관찰했을 때.

적절한 에칭 ; 에칭을 하고 시편을
관찰 했지만 철의 산화가
조금 발견된 시편.

과에칭 ; 에칭을 과하게 하여 시편을 관찰했을 때.
시편을 살펴보면,
1) sample 시편에서는 깨끗하고 깔끔하게 grain과 grain boundary를 관찰 할 수 있다.
2) 에칭을 하지 않고 관찰한 시편에서는 아무것도 볼 수 없었다.
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